第一百八十二章 浸入式技术
第一百八十二章 浸入式技术 (第3/3页)
个失误，导致岛国将光刻机巨头的皇冠，拱手让给了荷兰的asml。
asml从2000年左右开始研发euv光刻机，并决定大规模量产。
彼时，岛国光刻机企业却认为系统太过复杂，并未选择跟进。
那个时候的asml还是一家小公司，面对岛国制霸光刻机市场，他们决定以小博大，弯道超车，试一试台积电，林本坚提出的“浸入式光刻机技术”。
这个技术，你听起来觉得很高端，实际上是一种非常简单的技术，简单到陈伟东第一次听说的时候，还以为自己听错了。
所以他对这件事情印象深刻。
浸入式光刻技术，就是在光刻镜头，与待刻的硅晶片之间，充满液体，就可以大幅度提高光刻机的加工精度！
陈伟东将这项“技术”，告诉了克鲁格教授。
最近这些天，他在实验中将那台从树屋研究所带回来的光刻机，精度一百九十纳米的光刻机，成功刻制出了一百零五纳米的密集图形！
这一结果让他欣喜若狂！
几近失态！
通常的光刻机，在光刻镜头与硅晶圆之间，没有任何遮挡。
当然，从另一个角度来说，它们之间，存在的是空气。
浸入式的思路，就是用液体来替换掉中间的空气。
由于液体具有折光率，所以当紫外线通过液体介质之后，它的光源波长就会缩短，从而起到精微刻制的作用。
本来他们还觉得有些老旧的光刻机，突然摇身一变，成为了一百零五纳米的光刻机，远远的超过了现有的光刻技术！
其实这个浸入式光刻技术，并不算asml首创。
早在80年代初，就有科学家采用浸入技术，成功提高了光刻效果。
然而，这项技术，它的液体很容易污染光学镜片。
所以这个这个时期的主流光刻技术研究，只是将其作为一个过渡手段，并没有起到足够的重视。
一旦下一代光刻技术成熟，便会毫不犹豫的抛弃浸入式光刻。