第25章 老鲜肉,芯片制程工艺
第25章 老鲜肉,芯片制程工艺 (第3/3页)
加在一起是七十五道填空题,五道解答题,满分一百分。”牛光辉解释。
“你们,你们过分了吧!前面四个科目我就不说了,信息学算怎么回事,苏哲根本没有接受过相关的训练,你们这是在坑人。”包正义愤愤不平的说。
“这是徐正平校长妥协的条件,毕竟你提出的条件太苛刻了,不用上课,不用考试……对了,校长同意给苏哲学习和科研方面的自由,但每年需要相应的成果,或者通过校学术委员会的现场考核。”牛光辉补充道。
包正义点点头,说道:“这个比较合理,我想这个苏哲会接受的。”
绝对的自由也不是好事,适当的考核还是有必要的。
两人聊完苏哲的事,聊起国内EUV光刻机及五纳米以下芯片制程工艺的相关话题。
范晓明一边开车,一边听着,心里很不是滋味。
目前国内,能够自主可控的是制造28纳米及28纳米以上制程工艺的芯片。
14纳米制程工艺的芯片国内能生产,但相关设备高度依赖进口。
至于14纳米一下,国内目前无法制造。
现在,世界上最先进的芯片制程工艺是3纳米。
14纳米、7纳米、5纳米,再到3纳米,比起国内,整整先进了四代。
而他们这些人,以及相关的高校、机构直接跳过了前面的三代,直接研究3纳米芯片制程工艺。
相关的设备如刻蚀机、薄膜沉寂设备等等都已解决,就剩下最为核心的光刻机了。
而光刻机中的三大难题,EUV光源、双工件台和光学镜头,其中双工件台的难题已经解决。
EUV光源的问题,清大研制的同步辐射光源虽说极其耗能,但能用。
最后就是光学镜头了。
就他知道的专业研究光学镜头的团队就超过了五个,再加上一些不知名的,参入EUV光学镜头研究的团队很多。
相对来说,上岭大学光学镜头研究中心走在了最前列,一旦突破离子束抛光技术,EUV光刻机光学镜头的难题将得到解决。
那时EUV光刻机的制造不再是难题,这也意味着他们实现了弯道追赶,掌握自主可控的3纳米芯片制程工艺。
他觉得,突破离子束抛光技术的时间快了,那怕苏哲那没有进展,靠他们自己,再来两轮差不多就成功了。