第四十四章 临时想到的伪装计划
第四十四章 临时想到的伪装计划 (第2/3页)
PSS后，许秋将基片上的玻璃片取下，然后在100摄氏度下退火，擦片。
之后，他又重新在基片上贴好玻璃片，传入旋涂的手套箱内。
陈婉清看到后，好奇问道：“许秋，这是什么，玻璃片上贴着……PEN基片吗？”
“没错，我已经找到蚀刻PEN基片的方法了，湿法蚀刻，用3M胶布贴好，控制好时间就行了，”许秋道：
“下面贴一块玻璃是为了方便旋涂。”
“好呀，等下准备涂什么有效层啊？”陈婉清道。
“学姐给我点PTB7-TH的溶液用用呗，还有旋涂方法也告诉我吧。”许秋道。
“溶液在加热搅拌台上，应该还有500微升，足够你用了，”陈婉清道：
“实验条件的话，我等下写在便签纸上给你，现在快吃午饭了，等吃完饭回来再做实验吧。”
…………
下午，还不到一点钟，许秋便拿着学姐的便签纸，进入手套箱中。
没办法，旋涂的手套箱可是香饽饽，他怕到一点半的时候抢不到手套箱的使用权。
许秋看了一眼学姐的实验条件：
“氯苯溶剂，15毫克每毫升，给受体比例1:1，2000转速，0.5%体积分数的DIO，不退火。”
可以直接拿来使用，只需要调控一下转速即可。
溶液在放置和使用过程中，因为溶剂挥发等原因，其浓度是会改变的。
通常是溶液配制的时间越久，它的浓度越高，对应的最佳转速也会越来越高。
因此，一般情况下，一个溶液都会做多个转速，来补偿溶液浓度变化带来的影响。
这次做器件只是初步尝试，许秋没打算将十二片基片全部用掉。
他决定只用四片，其中两片涂PTB7-TH：PC[70]BM溶液，另外两片用之前的P3HT:PC[60]BM溶液。
P3HT的那两片操作稍微复杂一些，因为涉及到热退火和溶剂退火。
退火温度需要控制在100摄氏度，同时退火期间也要把下面粘着的玻璃片取下。
…………
将旋涂完成的四片基片放入蒸镀舱体，做好蒸镀准备工作，开始抽真空。
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