第四十八章 光源样品
第四十八章 光源样品 (第2/3页)
两人一共得到90余片小硅片，做这次的样品足够了。
“接下来，将小硅片洗净吹干，清洗硅片的话有专门的工具。”
陈婉清拿来一个装有塑料支架的烧杯。
“把硅片一片片整齐摆在塑料支架上，然后倒入溶液，用铝箔把烧杯口封住，然后用超声波清洗仪超声。
溶液分别是去离子水、丙酮、异丙醇，各自超声10分钟，最后再用氮气枪将硅片吹干，放入培养皿中。”
“这和清洗玻璃基片的步骤也差不多啊，除了不用肥皂水以外。”许秋道。
“是呀，不过在用氮气枪的时候要小心，硅片比ITO玻璃基片更容易飞掉。”陈婉清提醒道。
“好的。”许秋道：“对了，吴菲菲和段云他们不需要做样品吗？”
“吴菲菲的三维钙钛矿材料，遇到氧气会直接变质，没办法测试；
段云主要做无机热电材料，他在学校里用XRD就可以测试了，不需要跑到光源去测试。”陈婉清道。
…………
有了学姐的提醒，许秋在吹干硅片时，没出现太大的失误，只吹飞了一片。
然后，他和学姐一同讨论要做哪些样品。
P3HT的话，陈婉清有6个共混体系，3个单独组分，共9种；
旋涂方法包括正常旋涂和喷涂，共2种；
每种再设置2组转速；
一共36组条件。
PTB7-TH体系，1个共混体系，2个单独组分，共3种。
溶剂添加剂包含不添加和2种不同的体积分数，一共有3种；
退火和不退火，一共2种；
每种再设置2组转速；
一共36组条件。
其实转速对于最终结果的影响不大，但是有机样品的信号普遍较弱，为了防止意外，确保每个体系都能测出来信号，所以要尽量多的准备样品。
因为硅片的面积较小，所以采用数值编号，从1到72，许秋将编号对应的实验条件记录在实验记录本上。
然后，他将吹干的硅片臭氧处理后，传入手套箱中，准备旋涂。
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